Bare Silicon Wafers

Bare Silicon Wafers

Hár-hreinar kísilskífurnar okkar eru þaðafhent án viðbótarhúðunar eða vinnslulaga, sem býður upp á "autt striga" fyrir háþróaða örgerð. Þessi hvarfefni eru vandlega slípuð til spegils áferðar í gegnum fjöl-þrep efnafræðilega-mekanískrar plönunar (CMP) og veita ósveigjanlegt kristallað yfirborð. Þetta óspillta ástand er nauðsynlegt til að viðhalda heilleika síðari vaxtarfasa, sem gerir þá sem mestsveigjanlegt upphafshvarfefni fyrir ýmis hálfleiðara, MEMS og rannsóknarforrit.

High-Fidelity Surface fyrir fjölbreytta aðlögun:Þessar oblátur eru með undir-angström yfirborðsgrófleika og styðja viðkvæmustu þunnu-filmuútfellingartæknina, þar á meðal ALD (Atomic Layer Deposition) og Molecular Beam Epitaxy (MBE). Þessi yfirborðsfullkomnun tryggir að viðmótið milli beins sílikonsins og fyrsta unnar lagsins sé laust við fastar hleðslur eða málmóhreinindi, sem auðveldar framúrskarandi afköst tækisins.

Varma-Vélrænn stöðugleiki fyrir endurtekningarrannsóknir:Sérstaklega hönnuð til að lifa af margar-háhitalotur án slökunar á grindunum, bera beru obláturnar okkar sýna einstaka hitauppstreymi. Hvort sem það er notað í miklu-lofttæmiumhverfi eða í mikilli jónaígræðslu, heldur efnið uppbyggingarstefnu sinni og rúmfræðilegri flatleika, sem tryggirstöðugir eðlis- og rafeiginleikarallan R&D líftímann.

Bjartsýni fyrir nákvæmni samþættingu:Með því að fylgja ströngum SEMI stöðlum fyrir einsleitni þykktar og brúnarsnið, lágmarka þessar oblátur vélrænni breytur í hreinherberginu. Nákvæm stjórn á geislaviðnám og kristalstefnu gerir vísindamönnum og verkfræðingum kleift að spá fyrir um flutning flutninga með mikilli nákvæmni, sem gerir þá að gulls ígildi fyrirviðkvæm rafræn forritog sannprófun frumgerða.

maq per Qat: ber kísill oblátur, Kína ber kísil oblátur framleiðendur, birgja, verksmiðju