Hitaoxunartilbúnar sílikonskífur

Hitaoxunartilbúnar sílikonskífur

Þessar sílikonplötur eru vandaðarundirbúið til að styðja við oxunarferli, sem þjónar sem sniðmát með miklum-hreinleika fyrir myndun mikilvægra raforkulaga. Þessi undirlag er smíðað með ofur-hreinu-agnafríu yfirborði og eru hönnuð til að dafna undir miklum hitauppstreymi oxunar ofna. Atóm-sléttleiki kísilgrindarinnar er grundvallarforsenda þess að ná háum-hliða einangrunarefnum og einangrunaroxíðum í nútíma Analog og Power IC arkitektúr.

Tæknilegir kostir:

Samræmd oxíðlagsmyndun:Thestöðug yfirborðsgæði tryggir samræmda oxíðlagsmyndun, sem lágmarkar sveiflur á oxíðþykkt yfir allt þvermál skífunnar. Með því að viðhalda ströngum stýrðri ör-grófleika (Ra) og undir-míkron heildarþykktarbreytingu (TTV), auðvelda obláturnar okkar fyrirsjáanlegan oxunarhraða. Þessi rúmfræðilega tryggð er nauðsynleg til að koma á stöðugleika viðmiðunarspennu og auka áreiðanleika þunnra-filmu smára.

Lágmarksþéttleiki viðmótsástands:Þessar oblátur eru hannaðar til að framleiða-heiðarleg SiO-viðmót og gangast undir sérstakar hreinsunaraðferðir til að útrýma málmmengun og lífrænum leifum. Þetta leiðir til lágsTengistöðuþéttleiki, sem dregur beinlínis úr gildrun flutningsaðila og bætir skiptihraða og langtímastöðugleika endanlegra hálfleiðarabúnaðar.

Thermomechanical seigla:Sérstaklega fínstillt fyrir langa-ofnaferla, þessar oblátur sýna frábæra mótstöðu gegn hitauppstreymi. Efniðviðheldur heilleika við há-hitaferli, koma í veg fyrir grindarskrið og skekkju við umskipti frá umhverfis- til oxunarhita. Þessi burðarvirki stöðugleiki tryggir að oblátið haldist samhæft við síðari nákvæmni steinþrykk og ætingarskref.

maq per Qat: varma oxun tilbúnar kísilskúffur, Kína varmaoxunar tilbúnar kísilskífur framleiðendur, birgjar, verksmiðja