Ofur-hrein kísildíoxíðskífa fyrir örflöguframleiðslu
Ofur-hreint kísildíoxíðskúffa fyrir örflöguframleiðslu er hönnuð fyrir krefjandi notkun í hálfleiðaraframleiðslu, sem býður upp á óviðjafnanlega hreinleika og nákvæmni fyrir örflagaframleiðslu. Gerð úr hágæða kísildíoxíði (SiO₂), gefur þessi skífa einstaka rafeinangrun, yfirborðssléttleika og vélrænan styrk, sem gerir hana að kjörnu undirlagi fyrir framleiðslu á háþróuðum örflögum, samþættum hringrásum (IC) og MEMS tækjum. Með ofur-hreinri samsetningu sinni tryggir þessi kísildíoxíð áreiðanlega vinnslu, t.d. þunn-filmuútfelling og æting. Hvort sem þú ert að þróa-afkastamikil örflögur fyrir rafeindatækni fyrir neytendur, bílaforrit eða háþróaða-tækni, þá er þessi obláta hönnuð til að mæta þörfum nútíma örflagaframleiðslu og veitir þann stöðugleika og afköst sem þarf til að ná árangri.
- Hröð afhending
- Gæðatrygging
- 24/7 þjónustuver
Vörukynning
Tæknileg hvítbók: Ofur-Hreint kísildíoxíð (SiO_2) wafer fyrir örflöguframleiðslu
Efnisvísindi undir 5nm einangrunar
Á tímum of-skalasamþættingar hefur rafstraumslagið þróast úr óvirkum skilju í virkan virkjunarhraða tækja. TheOfur-hrein kísildíoxíðskífaer hannað til að takast á við mikilvæga áskorunMerki CrosstalkogGate lekií undir-5nm rökfræðilegum hnútum. Með því að nota hár-hreinleika varmavaxtarferli, lágmarkum við tilvist hreyfanlegra jónískra aðskotaefna sem valda óstöðugleika viðmiðunarspennu. Þessi ofur-hreina grindarbygging tryggir stöðugan rafstuðul, sem gerir ráð fyrir nákvæmri tímasetningu og merkiheilleika sem krafist er í afkastamiklum gervigreindarhröðlum og farsíma SoCs.
Verkfræði Precision Fabrication Base
Sérstök rafmagns einangrun:Þessi obláta státar af sundurliðunarsviðsstyrk og veitir öfluga rafmagns hindrun sem nauðsynleg er fyrir há-þéttleika 3D-NAND og afl-hagkvæmar samþættar hringrásir.
Frábær vélrænn styrkur og stöðugleiki:Sérstaklega hannað til að standast líkamlegt álagChemical Mechanical Planarization (CMP)og endurteknar varmalotur allt að1150 gráðurán vinda eða grindarlos.
Fínstillt fyrir sértæka ætingu:Ofur-hrein efnasamsetning gerir ráð fyrir mjög fyrirsjáanlegum ætingarhraða innReactive Ion Etching (RIE)ogAtomic Layer Etching (ALE), sem auðveldar að búa til hátt-hlutfalls-hlutfall og flókið MEMS-skipulag.
Strategic umsóknir
Háþróuð örflöguframleiðsla:Fyrsta valið fyrir millilagsrafmagn (ILD) og einangrunarskurðir í næstu-kynslóð örgjörva, GPU og rafrænna neytendaörgjörva.
Há-MEMS tæki:Veitir mikinn-stöðugleika byggingar- eða fórnarmiðils sem þarf til að búa til ör-spegla, há-Q resonators og tregðuskynjara.
Hálfleiðaraeiningar fyrir bíla:Hannað fyrir miklar-áreiðanleikakröfur rafrænna bifreiða og aflstjórnunarkerfa þar sem hitastöðugleiki er-mikilvægur.
Spennandi-R&D:Stöðug og „hlutlaus“ grunnlína fyrir rannsóknarstofur sem kanna ný tvívíddarefni eða nýjar efnafræðilegar útfellingar þunnrar-filmu.
maq per Qat: ofur-hreint kísildíoxíðskífa fyrir örflöguframleiðslu, Kína ofur-hreint kísildíoxíðskífa fyrir framleiðendur, birgja, verksmiðju
