Háþróuð kísiloxíðskífa fyrir ljóseðlisfræðileg notkun
Háþróuð kísiloxíðskífa fyrir ljóseindatækni er há-afköst undirlag sem er hannað til að uppfylla krefjandi kröfur ljóseinda- og ljóseindatækni. Þessi skífa er gerð úr há-kísiloxíði (SiO₂) og býður upp á yfirburða rafeiginleika, einstaka yfirborðssléttleika og framúrskarandi hitastöðugleika, sem gerir hana að kjörnu efni fyrir háþróuð ljóseinda- og sjóntæki. Hvort sem þú ert að vinna að samþættum ljóseindatækni, ljósfræðilegum samtengingum eða há-nákvæmni ljósa-forritum, þá skilar þessi skífa áreiðanlega og stöðuga frammistöðu. Háþróaða kísiloxíðskífan er sérstaklega hönnuð til notkunar í ljóseindabúnaði eins og bylgjuleiðaraframleiðslu, ljósmótara, ljósnema og aðra ljósnema. Ofur-slétt yfirborð þess og nákvæm framleiðsla tryggir hámarksvirkni í ljóseindarásum, sem veitir hágæða ljósgeislun, lágmarkstap og nákvæma bylgjuleiðsögn.
- Hröð afhending
- Gæðatrygging
- 24/7 þjónustuver
Vörukynning
Tæknilýsing: Háþróuð sílikonoxíðskífa
Vöruyfirlit
Háþróuð sílikonoxíðskífa fyrir ljóseindanotkun er fyrsta flokks undirlag sem er sérstaklega hannað fyrir strangar kröfur samþættrar ljóseindatækni og háhraða ljóseindatækni. Þessi obláta er með há-hreinleika hitauppstreymi eða CVD-vaxið oxíðlag á hálfleiðara-kísilgrunni og býður upp á frábæra rafeinangrun, einstaka yfirborðssléttleika og óviðjafnanlega hitastöðugleika. Það er kjörinn vettvangur til að búa til-afkastamikil ljóshluta, þar á meðal lítt-tap bylgjuleiðara, ljósmótara og há-ljósnæma ljósnema. Nákvæm brotstuðullsstýring þess og undir-nanómetra yfirborðsfrágangur tryggja hámarks ljóslokun og lágmarks útbreiðslutapi innan ljósrænna samþættra rafrása (PIC), sem gerir gagnaflutning á háum-hraða og nákvæmri bylgjuleiðsögn fyrir næstu-kynslóð ljóstengingar og skammtatölvunarviðmót.
Tæknilegir kostir
Ofur-Lágt ljóstap:Hið-hreinleika SiO_2 lagið lágmarkar dreifingu og frásog, sem tryggir hámarks skilvirkni ljóss yfir O-band og C-band bylgjulengdir.
Óvenjulegur yfirborðssléttleiki:Undir-nanómetra ójöfnur dregur úr truflunum á yfirborðsástandi, mikilvægt til að viðhalda fasasamkvæmni í flóknum truflumælum og mótunartækjum.
Nákvæm stjórnun brotstuðuls:Nákvæmt vaxtarferli tryggja mjög einsleitan oxíðþéttleika, sem veitir stöðugan brotstuðul sem þarf fyrir nákvæma útreikninga á bylgjuleiðarastillingu.
Mikil raf- og varmaáreiðanleiki:Framúrskarandi hitastjórnunareiginleikar gera oblátunni kleift að standast hita sem myndast af samþættum leysigjafa og háhraða rafeindadrifum án þess að burðarvirki rýrni.
Aðalumsóknir
Integrated Photonic Circuits (PICs):Grunnhólfið til að sameina sjón- og rafeindavirkni á einum flís fyrir fjarskipti og skynjun.
Optísk samtenging:Styður mikla-bandbreidd, litla-leynd gagnatengla fyrir gervigreind-drifnar gagnaver og há-afkastamikil tölvuþyrping (HPC).
Framleiðsla bylgjuleiðara og mótunarbúnaðar:Tilvalið til að búa til óvirka og virka sjónbyggingu sem krefjast nákvæmrar rúmfræði og lítils-ljóstaps.
Vinnsla skammtaupplýsinga:Veitir stöðugt-hljóðaumhverfi fyrir ofurleiðandi qubits og samþætt ljóseindaskammtahlið.
maq per Qat: háþróuð kísiloxíðskífa fyrir ljóseindatækni, Kína háþróuð kísiloxíðskífa fyrir ljóseindatækni framleiðendur, birgja, verksmiðju
