Silicon Technology Wafer

Silicon Technology Wafer

Þessi kísiltækni obláturería er vandlega hönnuð til að þjóna sem-heiðarleikavettvangur fyrirnútíma rafeindatækni. Stuðningur við allt iðnaðarrófið frá2-tommu (50 mm) til 12 tommu (300 mm), þessi hvarfefni virka sem óspilltur gestgjafi fyrir undir-míkróna arkitektúr, hannað til að viðhalda algerri grindarheilleika þar sem hnútur tækis halda áfram að minnka og flókið eykst.

Samvirkur árangursstöðugleiki:Efnið er fínstillt til að afhendastöðugur árangursem mætir vaxandi þörfum iðnaðarins. Með því að innleiða stranga stjórn á geislaviðnám og millivefssúrefni (Oi), lágmarkar oblátan rafhljóð og leka af sníkjudýrum, sem tryggir háhraða merki heilleika sem þarf fyrir5G, RF-IC og IoTumsóknir.

Háþróaður vinnslusamhæfi:Hvert undirlag er hannað til að vera að fullusamhæft við háþróaða vinnsluaðferðir, þar á meðal há-lofttæmi Atomic Layer Deposition (ALD), djúpviðbragðs-jónaæting (DRIE) og fjöl-ígræðsla jóna. Yfirburða varmavélafræðilega seiglu þess kemur í veg fyrir grindarslip og ör-skekkingu meðan á mikilli hitauppstreymi nútíma CMOS og BCD framleiðslu stendur.

Vettvangur fyrir nýsköpun í hönnun:Þessi oblátastyður nýsköpun í tækjahönnunmeð því að veita stöðugt og streitu-hlutlaust byrjunarflöt. Undir-míkron heildarþykktarbreyting (TTV) og fínstillt yfirborðsformgerð gerir það að verkumhentugur fyrir framtíðar-miðuð forrit, eins og MEMS-skynjarar með miklum-þéttleika og ólíkri samþættingu, sem tryggir-langtímaáreiðanleika í bílageiranum og snjall--innviðum.

maq per Qat: kísiltækni oblátur, Kína kísiltækni oblátur framleiðendur, birgjar, verksmiðju